
Quantum X
Technologie | autre résine |
Matériaux | Photopolymères |
Thématique | Microfabrication, Résine |
Taille d'impression | - |
Pays | Allemagne |
Description
Nanoscribe Quantum X est le premier système de lithographie en échelle de gris à deux photons (2GL ®) et fait progresser la microfabrication sans masque (maskless microfabrication) dans le domaine de la microoptique et des surfaces fonctionnelles. La lithographie à échelle de gris à deux photons de Nanoscribe combine la polymérisation à deux photons (2PP) avec les avantages de la lithographie à échelle de gris pour permettre la microfabrication rapide et précise de surfaces ultra lisses et de structures à très haute précision.
Ainsi, Nanoscribe Quantum X redéfinit la fabrication de topographies avec des surfaces de qualité optique, pour les microoptiques de forme libre, les réseaux de microlentilles et les éléments optiques diffractifs à plusieurs niveaux (DOE). Les éléments optiques 2D et 2,5D tels que les lentilles de Fresnel pour l’éclairage focalisé ou les micro-optiques hybrides, qui sont un mélange d’éléments réfractifs et diffractifs, peuvent être produits en une seule étape de fabrication.
Nanoscribe Quantum X: caractéristiques principales
- Microfabrication 2.5D à grande vitesse
- Surfaces ultra-lisse et excellente précision de forme
- Liberté de conception avec une résolution submicrométrique
- Processus automatisés (notamment l’étalonnage, l’exécution des tâches et la surveillance)
La lithographie à échelle de gris à deux photons (2GL ®) permet un contrôle dynamique de la taille des voxels. C’est le résultat de la synchronisation de la modulation de puissance du laser et du galvoscanning à haute vitesse avec un mouvement latéral précis de la plateforme. Elle permet une variation précise de la taille des voxels à des vitesses très élevées.
Par exemple, le contrôle de la modulation de l’impression haute résolution est réglé sur une grille de galvoscanner de 100 nm. Le voxel peut être modulé à plus de 4 000 niveaux à chaque point de grille dans l’espace tridimensionnel, ce qui permet un excellent contrôle de la topographie de la surface. Le logiciel Quantum X contrôle et surveille les impressions en temps réel et permet une utilisation intuitive via un écran tactile ou à partir de tout ordinateur connecté.
Quantum X : caractéristiques principales
- Taille minimale des détails : 100 nm
- Précision des formes : ≤ 200 nm
- Rugosité des surfaces jusqu’à ≤ 5 nm
Nanoscribe Quantum X : prix
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Technical specifications
Général |
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Modèle | Quantum X |
Marque | Nanoscribe |
Prix
Prix indicatifs basés sur les données publiques et/ou fournies par nos partenaires. Ces prix peuvent évoluer dans le temps et par région, et excluent les produits et services supplémentaires (installation, formation, accessoires, taxes, …).
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sur demande |
Date de sortie | 2019 |
Pays | Allemagne |
Statut | Disponible |
Thématique |
Microfabrication Résine |
Catégorie | Industrielle |
Technologie | autre résine |
Matériaux | Photopolymères |
Performance |
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Taille impression max. | - |
Volume impression max. | - |
Max. temperatures | |
Extrudeur | - |
Chambre | - |
Plateau | - |
Épaisseur min. d'impression | 0.00016 mm |
Précision XY | - |
Vitesse impression max. | - |
Propriétés |
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Chambre d'impression chauffante | - |
Extrudeur | |
Double extrudeur | - |
Double extrudeur indépendant (IDEX) | - |
Multiples extrudeurs (3+) | - |
Extrusion de granulés | - |
Multi-couleurs | - |
Tapis roulant | - |
5 axes | - |
Fabrication hybride | - |
Bras robotisé | - |
Hardware |
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Dimensions | - |
Poids | - |
Diamètre de la buse | - |
Diamètre filament | - |