Nanoscribe Quantum X est le premier système de lithographie en échelle de gris à deux photons (2GL ®) et fait progresser la microfabrication sans masque (maskless microfabrication) dans le domaine de la microoptique et des surfaces fonctionnelles. La lithographie à échelle de gris à deux photons de Nanoscribe combine la polymérisation à deux photons (2PP) avec les avantages de la lithographie à échelle de gris pour permettre la microfabrication rapide et précise de surfaces ultra lisses et de structures à très haute précision.

Ainsi, Nanoscribe Quantum X redéfinit la fabrication de topographies avec des surfaces de qualité optique, pour les microoptiques de forme libre, les réseaux de microlentilles et les éléments optiques diffractifs à plusieurs niveaux (DOE). Les éléments optiques 2D et 2,5D tels que les lentilles de Fresnel pour l’éclairage focalisé ou les micro-optiques hybrides, qui sont un mélange d’éléments réfractifs et diffractifs, peuvent être produits en une seule étape de fabrication.

Nanoscribe Quantum X: caractéristiques principales

  • Microfabrication 2.5D à grande vitesse
  • Surfaces ultra-lisse et excellente précision de forme
  • Liberté de conception avec une résolution submicrométrique
  • Processus automatisés (notamment l’étalonnage, l’exécution des tâches et la surveillance)

La lithographie à échelle de gris à deux photons (2GL ®) permet un contrôle dynamique de la taille des voxels. C’est le résultat de la synchronisation de la modulation de puissance du laser et du galvoscanning à haute vitesse avec un mouvement latéral précis de la plateforme. Elle permet une variation précise de la taille des voxels à des vitesses très élevées.

Par exemple, le contrôle de la modulation de l’impression haute résolution est réglé sur une grille de galvoscanner de 100 nm. Le voxel peut être modulé à plus de 4 000 niveaux à chaque point de grille dans l’espace tridimensionnel, ce qui permet un excellent contrôle de la topographie de la surface. Le logiciel Quantum X contrôle et surveille les impressions en temps réel et permet une utilisation intuitive via un écran tactile ou à partir de tout ordinateur connecté.

Quantum X : caractéristiques principales

  • Taille minimale des détails : 100 nm
  • Précision des formes : ≤ 200 nm
  • Rugosité des surfaces jusqu’à ≤ 5 nm

Nanoscribe Quantum X : prix

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